#O-06


Odkształcalność siatek Bragga
zapisywanych laserem ArF

Małgorzata GARBACKA1, Kamil BADURA1, Łukasz BEDNARSKI2, Rafał SIEŃKO3

1SHM System Sp. z o.o., Sp. komandytowa, Libertów, ul. Jana Pawła II 82A, 30-444 Kraków
2Katedra Mechaniki i Wibroakustyki, Wydział Inżynierii Mechanicznej i Robotyki,
Akademia Górniczo-Hutnicza, Mickiewicza 30, 30-059 Kraków
3Wydział Inżynierii Lądowej, Politechnika Krakowska, ul. Warszawska 24, 31-155 Kraków

W ramach projektu POIR.01.01.01-00-0172/22 opracowano siatki Bragga odporne na podział widma w pomiarach niejednorodnych odkształceń, które występują m.in. podczas badań materiałów kompozytowych oraz stali w zakresie odkształceń plastycznych. Siatki te zostały zapisane na stanowisku NORIA za pomocą lasera ArF o długości fali 193 nm metodą maski fazowej. Charakteryzowały się one jednak stosunkowo niską wytrzymałością mechaniczną, co przełożyło się na znaczne ograniczenie zakresu odkształcalności, poniżej 1%.
Odkształcalność, obok dokładności, jest kluczowym parametrem definiującym jakość każdego czujnika odkształceń, dlatego podjęto badania w celu określenia wpływu warunków zapisu na odkształcalność siatek Bragga. Podejrzewa się, że wysoka efektywność procesu absorpcji światła UV, charakteryzująca długość fali 193 nm, mogła powodować nieodwracalne uszkodzenia płaszcza światłowodu [1,2], szczególnie
w przypadku włókien światłowodowych o średnicy płaszcza φ80 µm. W związku z tym
w pracy omówiono również wpływ techniki usuwania akrylowego pokrycia światłowodu na uzyskaną odkształcalność. Wyniki porównano z parametrami siatek zapisanych metodą punkt-po-punkcie przy użyciu lasera femtosekundowego, które według danych producenta osiągają odkształcalność na poziomie do 6%.


Literatura
[1] J. Albert, B. Malo, F. Bilodeau, D. C. Johnson, K. O. Hill, Y. Hibino,, M. Kawachi, Photosensitivity in Ge-doped silica optical waveguides and fibers with 193-nm light from an ArF excimer laser, Opt. Lett. 19, 387-389 (1994)
[2] D.S. Gunawardena, K.A. Mat-Sharif, N. Tamchek, MH. Lai, N.Y. Omar, S.D Emami, S.Z. Muhamad-Yasin, M.I. Zulkifli, Z. Yusoff , H.A. Abdul-Rashid, K.S. Lim, H. Ahmad Photosensitivity of gallium-doped silica core fiber to 193 nm ArF excimer laser. Appl Opt. 54, 5508-5512 (2015)